Repair Intensiv Mask – mit Weizenproteinen, Keratrix™ & Sheabutter

2 vorrätig

Total Unit Price:

22,00 

2 vorrätig

Beschreibung

Tiefenwirksame Reparaturpflege für stark strapaziertes Haar.
Die Repair Intensiv Mask von H-Alchemy wurde speziell für geschädigtes, brüchiges oder chemisch behandeltes Haar entwickelt. Ihre intensive Formel mit hochwertigen Inhaltsstoffen sorgt für Regeneration, Elastizität und Glanz, ohne das Haar zu beschweren.


💡 Wirkung

  • Für geschädigte Haare und Haarspitzen geeignet

  • Regeneriert angegriffenes Haar & kräftigt die Haarstruktur

  • Macht das Haar geschmeidig, glänzend und leicht kämmbar

  • Weizenproteine und Keratrix™ stärken das Haar & verhindern Haarbruch

  • Weizenproteine wirken zusätzlich regenerierend auf die Kopfhaut

  • Keratrix™ ist reich an Mineralien, Vitaminen und Antioxidantien

  • Verbessert die Elastizität und schützt die Haarstruktur

  • Sheabutter spendet Feuchtigkeit, beruhigt die Kopfhaut

  • Enthält Vitamine A, E, F – schützen vor UV-Strahlung

  • Wirkt antistatisch, beschwert das Haar nicht


Anwendung

Die Maske gleichmäßig im gewaschenen, feuchten Haar verteilen.
Durchkämmen, ca. 10 Minuten einwirken lassen, anschließend gründlich ausspülen.
Tipp: Wärme (z. B. mit einem warmen Handtuch) verstärkt die Wirkung zusätzlich.
1–2 × pro Woche anwenden.


📦 Inhalt

250 ml


🧪 Inhaltsstoffe (INCI)

AQUA, BEHENTRIMONIUM CHLORIDE, BUTYROSPERMUM PARKII BUTTER, CETEARYL ALCOHOL, DICOCOYLETHYL HYDROXYETHYLMONIUM METHOSULFATE,
PROPYLENE GLYCOL, BUTYLENE GLYCOL, POLYQUATERNIUM-37, PARAFFINUM LIQUIDUM, PPG-1 TRIDECETH-6, CYCLOPENTASILOXANE, DIMETHICONOL,
HYDROLYZED WHEAT PROTEIN, CETYL PALMITATE, POLYQUATERNIUM-7, GLYCERIN, HYDROLYZED CERATONIA SILIQUA SEED EXTRACT, ZEA MAYS STARCH,
GUAR HYDROXYPROPYLTRIMONIUM CHLORIDE, PARFUM, PHENOXYETHANOL, BENZYL ALCOHOL, POTASSIUM SORBATE, TOCOPHEROL, CITRIC ACID

Rezensionen

Es gibt noch keine Rezensionen.

Schreibe die erste Rezension für „Repair Intensiv Mask – mit Weizenproteinen, Keratrix™ & Sheabutter“

Deine E-Mail-Adresse wird nicht veröffentlicht. Erforderliche Felder sind mit * markiert